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比誘電率: |
9.2-9.6 |
硬さ: |
HV0.5≥1700 |
色: |
BLACK/GRAY |
熱膨張係数: |
2 X 10-6/K |
断熱抵抗: |
1012-1014 Ω.cm |
熱伝導性: |
20 W/m.K |
絶縁耐力: |
18-20 KV/mm |
耐圧強度: |
3800 MPa |
比誘電率: |
9.2-9.6 |
硬さ: |
HV0.5≥1700 |
色: |
BLACK/GRAY |
熱膨張係数: |
2 X 10-6/K |
断熱抵抗: |
1012-1014 Ω.cm |
熱伝導性: |
20 W/m.K |
絶縁耐力: |
18-20 KV/mm |
耐圧強度: |
3800 MPa |
窒化珪素（Si3N4）の製陶術は高力、高い硬度および低い熱拡張係数による多くの適用のための理想的な材料である。Si3N4陶磁器の球はこの材料の最も広く利用された形態である。それに9.2-9.6の比誘電率、2 X 10-6/Kの熱拡張係数、7 MPaのひびの靭性、および0.25-0.3のポアソンの比率がある。Si3N4陶磁器の球の色は黒い/灰色である。それは優秀な特性による宇宙航空、自動車、医学の、および他の企業のような多くの分野で広く利用されている。
Si3N4陶磁器の球に優秀な酸化抵抗があり、耐久性、高力およびひびの靭性および優秀な熱抵抗。それに低い熱拡張係数、比誘電率およびポアソンの比率のような優秀な特性がある。それにまた優秀な電気絶縁材の特性および高温安定性がある。Si3N4陶磁器の球は電気絶縁材、保護層および断熱材のような適用で使用することができる。
Si3N4陶磁器の球は高力、高い硬度、低い熱拡張係数、優秀な酸化抵抗による多くの適用のための理想的な材料で、耐久性、低い比誘電率、低いポアソンの比率、優秀な電気絶縁材の特性および高温安定性を。それはまた非常に防蝕で、優秀な寸法安定性がある。Si3N4陶磁器の球は多くの適用のための完全な材料である。
| 変数 | 価値 |
|---|---|
| 絶縁耐力 | 18-20 KV/mm |
| 材料 | 窒化珪素の製陶術 |
| 熱伝導性 | 20 W/m.K |
| 密度 | 3.2-3.3 G/cm3 |
| 耐圧強度 | 3800 MPa |
| 比誘電率 | 9.2-9.6 |
| 弾性率 | 290 GPa |
| 硬度 | HV0.5≥1700 |
| ポアソンの比率 | 0.25-0.3 |
| 色 | 黒/灰色 |
窒化珪素の製陶術は例外的な特性による多くの異なった分野で広く利用されている。このプロダクトに、中国製、9.2-9.6の黒がか灰色色、比誘電率、18-20 KV/mmの絶縁耐力、7 MPaのひびの靭性およびSI3N4陶磁器の球の材料がある。それは自動車、宇宙航空、電気、電子工学、半導体および光学企業で主に使用される。高性能陶磁器として、それは高精度軸受け、半導体のパッケージ、弁の部品および他の産業適用で使用される。自動車産業では、窒化珪素の製陶術はピストン、弁、点火プラグおよび高温および耐久性を要求する他の部品のようなエンジン部品で使用される。航空宇宙産業では、窒化珪素の製陶術は極度な温度および高圧に抗する必要がある航空機および宇宙船部品で使用される。電気および電子産業では、窒化珪素の製陶術は集積回路、半導体のパッケージおよび他の部品のような高性能電子工学で使用される。半導体工業では、窒化珪素の製陶術はトランジスター、抵抗器、コンデンサーおよび他の電子部品の生産で使用される。最後に、光学企業で、窒化珪素の製陶術は光学レンズおよびミラーと他の光学部品で使用される。
私達の窒化珪素の製陶術の特徴20 W/m.Kの熱伝導性、7 MPaのひびの靭性、HV0.5≥1700の硬度、290 GPaの弾性率、および3.2-3.3 G/cm3の密度。私達のプロダクトすべては中国製ある。
SI3N4陶磁器の球の利点を今発見しなさい!私達の窒化珪素の陶磁器の球は高温および耐久性、優秀な熱衝撃の抵抗および電気絶縁材を要求する適用のために完全である。
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包み、出荷する窒化珪素の製陶術:
窒化珪素の製陶術の包装は交通機関の間に損傷からプロダクトを保護して非常に重要である。次に窒化珪素の製陶術は密封されたポリ袋と板紙箱か容器で普通出荷される。箱か容器は気泡緩衝材や泡のパッディングとそれから更に衝撃および振動を吸収するためにしっかり止められている。箱か容器はまた製造業者や受け手の製品名そして住所と分類されるべきである。
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